X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如AlKa=1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能(B.E)。

基本内容

主要用途：XPS：1.固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样深度为～3nm2.元素成分的深度分析（角分辨方式和氩离子刻蚀方式）3.可进行样品的原位处理AES：1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析）2.可进行深度分析适合：纳米薄膜材料，微电子材料，催化剂，摩擦化学，高分子材料的表面和界面研究

仪器类别：03030707/仪器仪表/成份分析仪器

指标信息：主真空室：

1×1010乇XPS：AES:分辨率：0.8cV电子枪束斑：75nm灵敏度：80KCPS信噪比：大于70:1角分辨：5°～90°灵敏度：255KCPSA1/Mg双阳极靶能量分辨率：0.3%位置灵敏检测器（PSD）

附件信息：XPS：

1.快速氩离子刻蚀枪AES：

1.快速氩离子刻蚀枪

2.能量损失谱,

主要研究领域包括：

（1）TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用；

（2）汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究；

（3）纳米药物载体及靶向药物的研究；

（4）纳米导电陶瓷薄膜材料的研究；

（5）纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究；

（6）纳米发光材料及纳米分析化学研究；

（7）有机电致发光材料的表面化学研究；

（8）纳米材料在香烟减毒净化上的应用研究；

（9）无机纳米杀菌与抗菌材料及其在饮用水净化上的作用；

（10）电解水制氧电极材料的研究