纳米光刻是纳米技术中涉及纳米级结构工程的技术领域中一个不断发展的领域，纳米光刻领域的诞生是出于增加集成电路中晶体管数量以维持摩尔定律的需要，光刻已成为最成功的商业技术，能够产生100nm以下的图案。
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